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抛光液

清洗剂

光学玻璃氧化锆抛光液

本产品为水性抛光液，具有良好的悬浮分散特性，可得到高质量的精密抛光表面。
抛光液采用优选的氧化锆颗粒和添加剂，以适合特定的抛光应用，独特的配方设计，使抛光后清洁更为容易。

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陶瓷背盖金刚石抛光液

选用微纳米等级的金刚石颗粒作为磨料，其粒度集中，形貌优良，具有极佳的切削力。液体介质有水系、醇系及油系，以适应不同工件的加工要求。
不同体系金刚石抛光液具有其独特性，主要体现在金刚石种类、尺寸、浓度、溶液化学组成及液体流变特性上。

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陶瓷背盖碳化硅抛光液

选用莫氏硬度为9.2~9.5的碳化硅微粉作为抛光液磨料，使得本产品具有高移除量，同时兼具化学性能稳定、分散性良好以及加工后工件易清洗等特点。
搭配抛光轮或抛光皮使用，可用于不锈钢、铝合金、硬质材料、碳钢、铸铁、陶瓷基板与光纤连接器等的研磨抛光。

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通用型碳化硅抛光液

选用莫氏硬度为9.2~9.5的碳化硅微粉作为抛光液磨料，使得本产品具有高移除量，同时兼具化学性能稳定、分散性良好以及加工后工件易清洗等特点。
搭配抛光轮或抛光皮使用，可用于不锈钢、铝合金、硬质材料、碳钢、铸铁、陶瓷基板与光纤连接器等的研磨抛光。

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通用型氧化铈抛光液

本抛光液具有极窄粒度分布、优异的悬浮分散性和良好的流动性，可确保抛光后产品性能一致，表面无划痕和其他表观缺陷，以得到高质量精密抛光表面。
采用碱性体系配方，增强了化学抛光作用，使本产品具有较高的抛光效率，同时使抛光颗粒的清洗更为容易。

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玻璃氧化铈抛光液

本抛光液具有极窄粒度分布、优异的悬浮分散性和良好的流动性，可确保抛光后产品性能一致，表面无划痕和其他表观缺陷，以得到高质量精密抛光表面。
采用碱性体系配方，增强了化学抛光作用，使本产品具有较高的抛光效率，同时使抛光颗粒的清洗更为容易。

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通用型碳化硅抛光液

选用莫氏硬度为9.2~9.5的碳化硅微粉作为抛光液磨料，使得本产品具有高移除量，同时兼具化学性能稳定、分散性良好以及加工后工件易清洗等特点。
搭配抛光轮或抛光皮使用，可用于不锈钢、铝合金、硬质材料、碳钢、铸铁、陶瓷基板与光纤连接器等的研磨抛光。

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化合物基板抛光液

选用莫氏硬度为9的氧化铝粉作为抛光液磨料，使得本产品具有高移除量，同时兼具便宜、化学性能稳定、分散性良好以及抛光后工件易清洗等特点。
本产品搭配抛光轮或抛光皮使用，可用于不锈钢、铝合金、蓝宝石、金属化合物基板等材料的抛光。

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