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抛光液

清洗剂

通用型碳化硅抛光液

选用莫氏硬度为9.2~9.5的碳化硅微粉作为抛光液磨料，使得本产品具有高移除量，同时兼具化学性能稳定、分散性良好以及加工后工件易清洗等特点。
搭配抛光轮或抛光皮使用，可用于不锈钢、铝合金、硬质材料、碳钢、铸铁、陶瓷基板与光纤连接器等的研磨抛光。

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化合物基板抛光液

选用莫氏硬度为9的氧化铝粉作为抛光液磨料，使得本产品具有高移除量，同时兼具便宜、化学性能稳定、分散性良好以及抛光后工件易清洗等特点。
本产品搭配抛光轮或抛光皮使用，可用于不锈钢、铝合金、蓝宝石、金属化合物基板等材料的抛光。

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碳化硅基板金刚石抛光液

选用微纳米等级的金刚石颗粒作为磨料，其粒度集中，形貌优良，具有极佳的切削力。液体介质有水系、醇系及油系，以适应不同工件的加工要求。
不同体系金刚石抛光液具有其独特性，主要体现在金刚石种类、尺寸、浓度、溶液化学组成及液体流变特性上。

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磷化铟抛光液

磷化铟（InP）是重要的Ⅲ‑Ⅴ族化合物半导体材料，磷化铟具有直接跃迁型能带结构，禁带宽度较宽，磷化铟晶体材料具有高的电场漂移速度、良好的热导特性和较强的抗辐射能力等优点。

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